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INS-Mini基础版磁控溅射镀膜仪
    发布时间: 2026-01-28 11:22    

磁控溅射，薄膜颗粒更小
满足高分辨率看样需求

INS-Mini基础版磁控溅射镀膜仪
INS-MINi


                                                    ▶一键镀膜，全自动操作

                                                    ▶镀膜过程样品无温升满足生物等温度敏感
                                                       材料的镀膜需求

                                                    ▶磁控溅射，薄膜颗粒更小满足高分辨率看样需求

                                                    ▶液晶触摸屏，工作参数实时查看

                                                    ▶抽气效率高2分钟内开始镀膜


                                                    ▶支持Au/Pt/Ag靶材


主要参数

外形尺寸

245(L)×270(H)×360(D) mm

显示屏

5 英寸触摸屏、全数字显示

可用靶材

Au、Pt、Ag

靶材尺寸

Φ38mm，厚度支持0.1-2mm

工作电流

1-35mA可调

镀膜时间

1-9999s可调

真空泵

旋片式真空泵（可选干泵）

真空泵抽速

1.1L/s

真空室

φ100×80mm 高强度玻璃

极限真空

≤0.5Pa

工作介质

氩气或氮气（空气）

工作真空

1-20Pa可调

供电

AC220V/50Hz

额定功率

500W

样品台

Φ80mm，可放置14个标准样品座，与靶材距离20-45mm可调节

其它

真空度、工作电流实时显示