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INS-11MC磁控溅射镀膜仪
    发布时间: 2026-01-28 10:35    

一键镀膜，全自动操作


INS-11MC磁控溅射镀膜仪


INS-11MC

 

                                                               ▶一键镀膜，全自动操作

                                                      ▶7寸触摸屏，工作参数实时查看

                                                      ▶镀膜过程样品无温升适用范围更广

                                                      ▶抽气效率高2分钟内开始镀膜

                                                      ▶磁控溅射，薄膜颗粒更小满足
                                                               高分辨率看样需求

                                                      ▶标配旋转样品台薄膜均匀性更好


主要参数

外形尺寸

330(L)×300(H)×370(D) mm

显示屏

7 英寸触摸屏、全数字显示

可用靶材

Au、Pt、Cu、Ag、Pd等

靶材尺寸

Φ50mm，厚度支持0.1-2mm

工作电流

1-50mA可调

镀膜时间

1-9999s可调

真空泵

旋片式真空泵（可选干泵）

真空泵抽速

1.1L/s

真空室

φ130×100mm 高强度玻璃

极限真空

≤0.5Pa

工作介质

氩气或氮气（空气）

工作真空

1-20Pa可调

供电

AC220V/50Hz

额定功率

500W

样品台

Φ80mm，可放置14个标准样品座，与靶材距离20-45mm可调节，标配旋转样品台

其它

真空度、工作电流可实时曲线显示