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会议介绍

第 25 届原子层沉积国际会议 （ALD 2025） 及第 12 届国际原子层刻蚀研讨会（ALE 2025） ，于 2025 年 6 月 22 日（星期日）至 6 月 25 日（星期三）在韩国济州岛国际会议中心 （ICC Jeju） 盛大举行，出席人数为 700+。

为期三天的会议里，聚集了全球众多顶尖专家、产业链伙伴，以讨论薄膜原子层控制沉积、原子层刻蚀的科学和技术为核心，科学家们一起进行了思想火花的碰撞、专业和实践的技术交流。

会场直播

（上海科技大学物质科学与技术学院谢琎教授）

（资深专家华中科技大学陈蓉教授）

（上海交通大学杰青孔向阳教授）

世界头牌企业 LAM Research 在会议上给我们的台式 ALD 做广告宣传，该公司已经购买了 6 套我们的设备，号称铁杆粉丝。

学术大咖赫尔辛基Mikko Ritala教授也是我们台式ALD的客户，在会场近距离和教授交流并得到了正向反馈。

世界头牌企业ASM要了个小展位不推广产品，而是招人。

盈思拓科技代表周女士穿梭于各展区，与国际伙伴以及众多世界顶级ALD设备用户及领域专家进行了深度交流，探讨设备性能提升、工艺优化及新兴应用场景的痛点与解决方案。

参加这次国际会议的国内老师，他们都是来自于国内头部高校的各位专家和教授，盈思拓代表有幸在会场和他们交流请教学习，并且合影留念。

ALD/ALE 2025国际会议不仅是一场技术展示，更是定义未来微纳制造精度的“风向标”。盈思拓科技不仅是前沿技术的学习者，更是中国ALD产业力量的代表者与连接者。通过深度参与，将国际最前沿的ALD/ALE技术动态、市场需求与资源带回国内。我们致力于将这些宝贵的洞察转化为服务中国客户的动能，助力本土企业在半导体、新能源、光学镀膜等关键领域实现技术跃迁。盈思拓科技，将持续做中国连接全球尖端ALD技术的可靠桥梁！

（我们产品的哈佛团队）

(我们的明星产品）