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高真空碳金一体镀膜机
    发布时间: 2026-01-28 14:26    

满足各种扫描电镜导电膜制备
及透射电镜碳膜制备需求

高真空碳金一体镀膜机
INS-H32MTC

▶磁控溅射+热蒸发镀碳双功能

▶满足各种扫描电镜导电膜制备及透射电镜碳膜制备需求

▶多功能样品台支持旋转、升降及倾斜功能

▶双功能一键切换一键镀膜,全自动操作

▶双组件均配备防污染系统有效保护镀膜组件

▶进口分子泵极限真空优于5E-3Pa


主要参数

外形尺寸

278(L)×494(H)×467(D) mm

供电要求

AC220V/50Hz  <1000W

溅射靶材

Φ50mm,厚度0.1-2mm

可用靶材

所有金属、导电材料等

工作电流

1-200mA可调(步长:1mA)

镀膜时间

1-9999s可调(步长:1s)

蒸发源

高纯碳纤维

蒸发模式

闪断模式、脉冲模式

真空室

170(L)×150(H)×163.5(D) mm

一体加工金属腔室

极限真空

≤5×10-3Pa

真空泵

旋片泵(可选干泵)+分子泵

主真空泵抽速

90L/s

预溅射

全自动预溅射系统,防止样品污染及组件污染、提高镀膜纯度

样品台

Φ80mm,支持旋转、升降及倾斜功能

其它

真空度、工作电流可实时曲线显示