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INS-12MC双靶磁控溅射镀膜仪
    发布时间: 2026-01-28 14:18    

单靶溅射、双靶共溅、交替溅射

INS-12MC双靶磁控溅射镀膜仪
INS-12MC

                                                            ▶单靶溅射、双靶共溅、交替溅射

                                                            ▶一键镀膜，全自动操作可编程自定义多层膜制备参数

                                                            ▶磁控溅射，薄膜颗粒更小满足高分辨率看样需求

                                                            ▶7寸触摸屏，工作参数实时查看

                                                            ▶配备防污染系统有效保护镀膜组件

                                                            ▶标配旋转样品台薄膜均匀性更好


主要参数

外形尺寸

278(L)×494(H)×467(D) mm

溅射靶头

平面磁控冷溅射靶头

靶材尺寸

Φ50mm，厚度支持0.1-2mm

可用靶材

Au/Pt/Ag/Cu/Pd等五种靶材

工作电流

1-50mA可调（步长：1mA）

镀膜时间

1-9999s可调（步长：1s）

真空泵

旋片泵（可选干泵）

主真空泵抽速

2L/s

真空室

170(L)×150(H)×163.5(D) mm

一体加工金属腔室

极限真空

≤0.5Pa

工作介质

氩气/氮气/空气

工作真空

1-20Pa可调

供电

AC220V/50Hz

额定功率

＜800W

预溅射

全自动预溅射清洁功能，配合预溅射挡板，防止样品污染、提高镀膜纯度

样品台

支持旋转、升降及倾斜功能

其它

真空度、工作电流可实时曲线显示